您当前所在位置:首页>产品展示>详细介绍
产品展示
详细内容
JGC-40磁控溅射镀膜机
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺 磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
磁控溅射镀膜机JGC-40
磁控溅射镀膜机JGC-40
产品参数
基片座:φ75×3
磁控靶:φ75×1(个直流源,个频源)
样品手动换位
样品自转可调速:0-30rpm
样品温度:400±3°(可冷水)
适合金属膜、非金属膜、化合物的溅镀工艺
更新时间:2024/4/19 11:52:42
标签:JGC-40磁控溅射镀膜机
产品询价
留言框 | |
感兴趣的产品: | * |
您的单位: | * |
您的姓名: | * |
联系电话: | * |
详细地址: | |
常用邮箱: | |
您的任何要求、意见或建议: * |
|
验证码: | * |
上海非利加实业有限公司联系人:蒲经理
邮箱:2565589524@qq.com 邮编:
同类相关产品
相关文献
产品搜索
- 联系电话:400-006-7520
联系我们
- 公司名称:上海非利加实业有限公司
- 电话:400-006-7520
- Email:2565589524@qq.com
- 联系人:蒲经理
- 手机:18221374310
- QQ: 2565589524
- 公司地址:上海市浦东新区建韵路500号天纳商汇4座1715